4路質子混氣管式PECVD系統
型號:
OTF-1200X-50-4CLV-PE
產品概述:
為使化學反應能在較低的溫度下進行,常利用等離子體的活性來促進反應,這種方法稱為等離子體增強化學氣相沉積法(PECVD)。加熱爐設備的內爐膛表面涂有美國進口的高溫氧化鋁涂層,可提高設備的加熱效率,同時也可延長設備的使用壽命。
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設備名稱

4路質子混氣管式PECVD系統—OTF-1200X-50-4CLV-PE

相關視頻

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        操作視頻

外形尺寸

長*寬*高 2080mm*700mm*1520mm

11.jpg

爐管規格

外徑: 100mm 

內徑: 96mm×長: 1800 mm

加熱爐主要參數

·最高溫度: 1200℃

·額定工作溫度: 1100℃

·推薦升溫速率:≤10℃/min

·加熱區長度: L總:440mm(雙溫區包括隔環)

              溫區一:200mm

              溫區二:200mm

·加熱爐額定功率:3KW

·滑動方式:電動控制

·滑動最大行程:600mm

·電壓:單相AC 208 - 240V, 50HZ

溫控系統

 歐陸EPC3000儀表

·模糊PID控制和自整定調節功能

·智能化24段可編程控制

·帶過電流過電壓保護 漏電保護

電氣元件及電纜,冷壓端子均符合UL認證標準

·控溫精度: ±0.1℃

·控溫:K型熱電偶兩根

·通訊協議:modbus RTU

軟件控制

· 可視化運行狀態監控

· 溫控系統,氣路系統,真空系統,射頻系統,滑動爐體,開合爐體,壓力控制,全自動化,

· 數據記錄、過程記錄集成一體

· 預制工作流程,一鍵自動運行

· 具有恒壓功能,可以設定氣體流量和恒定壓力

壓力控制:采用TRP-12(抽速3L/s)的雙旋真空泵,在總進氣量為100-150sccm,管內壓力為 100-130pa,如總進氣量高于150sccm時,請更換抽速更高的泵,測試為總進氣量為1L/min(滿足四路質量流量計全開狀態時),使用VRD-60泵(抽速18L/s),最高真空為120-130pa(滿足起輝條件),可在任意供氣量下設定任意氣壓值(該氣壓值需大于搭配泵體的最大真空值),氣壓值可自動穩定

新式快捷法蘭

可方便快速取放物料

射頻電源

·500W射頻電源

·0--500W可調(穩定性±1%)

·射頻頻率:13.56MHZ

·自動匹配 風冷

·噪音<50dB

·輸入電壓:AC108-250V

供氣系統

·四通道質子流量計控制系統可實現氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%)

·流量范圍:一路0-100 sccm 

            二路0-200 sccm 

            三路0-200 sccm 

            四路0-500 sccm 


注:接入供氣系統的氣源需搭配減壓閥,將氣壓降至2mpa以下

真空系統

·搭配TRP-12的雙旋真空泵(抽速3L/s)(總進氣量小于150sccm,該泵可以達到等離子發生真空度)

·搭配TRP-60雙旋真空泵(抽速10L/s)(總進氣量1L/min,該泵可以達到等離子發生真空度)

·KF25卡箍及波紋管用于連接法蘭與真空泵

·真空度可達10-2Torr

備注

注:采用氬氣高于射頻功率200w情況下,需特殊說明,設備需要特殊改造及測試,(有法蘭過熱情況)

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